JX金属は26日、半導体向け金属材料の最新鋭拠点、ひたちなか新工場（茨城県ひたちなか市）の開業式を開いた。2030年ごろまでに総額1500億円を投じ、人工知能（AI）向けデータセンターなどで需要が拡大する先端材料を増産する。
半導体に回路を描くために薄膜を形成する際に使う「スパッタリングターゲット」を生産する。JX金属は世界シェアの6割を持ち、磯原工場（同県北茨城市）で生産してきたが、生成AIの普及などで需要が拡大しているため、新工場を建てた。
ひたちなか新工場の敷地面積は約22万4000平方メートルで、今回、延べ床面積が約2万9000平方メートルの「薄膜材料工場」棟が完成。スパッタリングターゲットの材料である銅の純度を高めるための溶解炉が試運転を始めた。設備を順次導入していき、27年度後半以降には生産能力を23年度に比べ6割高める。
時期は未定だが、敷地内に研究開発棟も建設する。林陽一社長は「新たな技術、製品を世界に提供していく。地域の産業基盤の一翼を担い、持続的な発展に貢献していきたい」と語った。
工場に隣接する約9万4000平方メートルの土地も茨城県から購入することが決まっている。林社長は「1500億円の投資は30年ごろまでに終えたいが、需要次第で対応していく。拡張余地は十分にある」と話した。
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